PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。與傳統化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對環(huán)境無(wú)污染，是綠色環(huán)保工藝；對操作者無(wú)傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù))，這些方法統稱(chēng)物理氣相沉積(PhysicalVaporDepoition)，簡(jiǎn)稱(chēng)為PVD。

如果鍍耐磨裝飾膜，膜厚較大，要求與機體結合牢固，但均勻性要求不高?；魻栯x子源可用。它具有高離子電流和高離子能級。如果涂有光學(xué)薄膜，主要要求離子電流水平集中，離子電流均勻性好。所以使用考夫曼或射頻離子源，有條件可以使用ECR(電子回旋)或ICP(電感耦合)離子源。另外還要考慮耗材，比如鎢絲的霍爾源，在反應氣體中十個(gè)小時(shí)就會(huì )燒壞。而離子源，如ICP離子源，可以在反應氣體中連續工作數百小時(shí)。

這個(gè)名字仍然沒(méi)有堅持，因為在同一年，德國化學(xué)家馬丁·海因里?！た死樟_斯發(fā)現了另一種名為“金紅石”的礦物中的金屬元素，現在已知其主要由二氧化鈦（TiO組成。）。在希臘神話(huà)中的“泰坦”之后，他將這種新金屬更具想象力地命名為“鈦金屬”。由于克拉普羅斯是一位受歡迎的，成熟的化學(xué)家，他的關(guān)系很好，但這個(gè)名字仍然存在，盡管格雷戈里因為首先發(fā)現它而受到贊譽(yù)